Fe-Co系高飽和磁化膜の構造と軟磁気特性(高密度磁気ストレージ材料 : 開発の現状・未来と解析技術)
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概要
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2.4T級の高飽和磁束密度(B_s)を有するFe-Co系薄膜において良好な軟磁気特性を得るために、様々な添加材料や下地膜を検討した。添加材料としては、Al_2O_3が優れた材料であることがわかった。粒界に偏析したAl_2O_3により、膜の初期層から表面まで連続的な柱状構造が形成される。また、下地膜により初期層の結晶粒が微細化され、かつ配向が乱雑化されることが軟磁気特性にとって重要な要因である。広い膜厚範囲で1Oe以下の困難軸方向の保磁力(H_<ch>)が得られるのは、Al_O_3添加とfcc構造を有する下地膜の組み合わせのみである。そのメカニズムは、Hoffmanのリップル理論とexchange induced ripple reduction processにより部分的には解釈できるが、さらに定量的な検討が必要である。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-10-28
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