相変化光ディスクのクロスイレーズ低減
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概要
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様々な方法によって、相変化光ディスクのアモルファスマーク形成過程(結晶化過程)をシミュレートする方法が検討されている。このうち、媒体上の各点におけるレーザービーム通過時の結晶化温度保持時間を計算する方法は、簡易的な記録マーク形状の計算、あるいは単純なモデルで説明できる現象の解析に有効である。本報告では、相変化光ディスクの積層構造とクロスイレーズの関係を、隣接トラックにおける結晶化温度保持時間、および隣接トラックにおける最高到達温度の観点から見直し、クロスイレーズ低減のための指針を明らかにした。
- 2000-09-15
著者
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牛山 純子
(株)日立製作所中央研究所
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宮本 真
日立マクセル 次世代ディスクセ
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宮本 真
日立マクセル株式会社 開発本部 次世代ディスクセンター
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牛山 純子
日立製作所中央研究所
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宮本 真
(株)日立製作所中央研究所光ディスク開発戦略プロジェクト
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安藤 圭吉
(株)日立製作所中央研究所
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安齋 由美子
(株)日立製作所中央研究所ストレージ研究部光ディスク開発センター
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宮元 真
日本マクセル株式会社開発本部次世代ディスクセンター
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安藤 圭吉
(株)日立製作所中央研究所ストレージ研究部光ディスク開発センター
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