対称四重障壁構造における電子の共鳴トンネル現象
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概要
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対称四重障壁構造において、井戸層と障壁層の電子の有効質量差を考慮に入れた場合について、電子の共鳴トンネル現象に関する理論解析を行い,透過係数と共鳴条件の解析式を得た.共鳴条件は,独立した二つの条件式で表され,1つは外側井戸層を含む二重障壁構造に,他の1つは外側と中央井戸層とのカップリングに依存している.これは,対称四重障壁構造における重要な特徴であり,デバイス応用に有用であると考えられる.外側障壁幅を内側障壁幅より薄くすると,透過率のピークが1以下の共鳴現象が起こる.これは電子の閉じ込めが弱くなったためであり,電子の波動関数(確率密度)を調べて確認した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-09-17
著者
-
谷口 慶治
福井大 工
-
谷口 慶治
福井大学工学部情報・メディア工学科
-
山本 弘明
Department Of Information Science Faculty Of Engineering Fukui University
-
山本 弘明
福井大学工学部情報・メディア工学科
-
佐野 弘
福井大学 工学部
-
佐野 弘
福井大学工学部情報工
-
山本 弘明
福井大学工学部
-
山本 弘明
福井大学大学院工学研究科情報・メディア工学専攻
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