サファイア誘電体表面抵抗測定によるNBCO両面薄膜評価
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概要
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高温超電導薄膜を用いたマイクロ波デバイスの実用化には両面超電導薄膜作製技術とその品質評価技術が必要不可欠である。今回、両面超電導薄膜の作製にはPLD法を用い、薄膜のマイクロ波表面抵抗Rsの測定には低損失なサファイア円柱を用いた誘電体共振器法により行った。超電導体薄膜はYBCOと比較的表面が安定なNBCOを用いた。両面超電導薄膜作製条件により表側と裏側それぞれのRsに与える影響について報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-04-23
著者
-
田巻 明
東京電機大工
-
榎本 陽一
超電導工学研究所
-
鈴木 克己
超電導工学研究所・田町分室
-
鈴木 克己
超電導工学研究所
-
田巻 明
東京電機大学
-
長谷川 典央
超電導工学研究所・田町分室
-
中田 一
東京電機大学大学院工学研究科物質工学専攻
-
長谷川 典央
東京電機大学大学院工学研究科物質工学専攻
-
村中 康二
住友電気工業
-
鈴木 克巳
(株)日立メディコ技術研究所
-
田巻 明
東京電機大
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