MFMによる高密度光磁気記録マークの解析
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概要
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光磁気ディスクの高密度化を実現するには、熱記録されるマークエッジ形状の精密制御が重要である。本論文では、容量2.6GBを目指した130mm径光磁気媒体についてMFM (Magnetic force microscopy)技術を用いて記録マークの形状観察を行い、記録パワーの変動、熱的な干渉およびオーバライト記録時の消し残りがマーク形状の歪に及ぼす影響を明らかにした。またパルストレイン記録において、先頭の記録補償パルスのレベル制御、オーバライト媒体ではさらに消去パワーレベルの制御を行うことにより歪補正が可能であることを明らかにした。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-11-21
著者
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田辺 隆也
NTTサイバースペース研究所
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田邊 隆也
NTTサイバースペース研究所
-
Bouet L.
ポールサバティニ大学
-
ブエ L.
ポールサバティニ大学
-
吉川 博
NTT 入出力システム研究所
-
田辺 隆也
NTT 入出力システム研究所
-
山本 学
NTT 入出力システム研究所
-
BOUET Laurence
NTT 入出力システム研究所
-
田辺 隆也
Ntt サイバースペース研
-
Bouet Laurence
Laboratoire De Chimie Materiaux Inorganiques Ura-cnrs 5070 Universite Paul Sabatier
-
山本 学
Ntt 入出力システム研
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