ナノプリンティング技術

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概要

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• サブミクロンの世界に入った半導体製造プロセスにおいてもいまだにフォトリソグラフィーがパターン転写の大部分を担っている.我々はより効率的・経済的なパターン転写技術として,硬い基板上に形成された凹凸パターン(モールド)を金属や半導体基板等に直接プレス転写する技術(ナノプリンティング法)を開発し,その有効性を明らかにしている.数十nmの微細パターンが形成されたSiCをモールドとし,アルミ基板やポリカーボネート基板などへ高精度に転写できることを報告し,それらを応用した高規則構造の形成へと発展させている.本論文では,ナノプリンティング法について,その特徴と有効性を紹介するとともに,最近その研究開発が急進展している,レジストを介したプレス転写(nanoimprint lithographyと呼ばれている)に関しても言及する.

• 2002-09-01

著者

• 中尾 正史

  NTTフォトニクス研究所

• 中尾 正史

  日本電信電話株式会社:nttフォトニクス研究所:(現)東北大学金属材料研究所

• 中尾 正史

  Ntt フォトニクス研

• 中尾 正史

  日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所

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