電子ビームマスク描画装置技術の現状と課題(IT革命に向けたリソグラフィー技術論文<小特集>)
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概要
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光リソグラフィー及びその延長にあるEUVリソグラフィー, 電子線転写リソグラフィーにおいて, マスク製作は要となる技術である.先端マスクのパターン生成にはパターン解像性に優れた電子ビーム描画装置が主に用いられるが, 集積回路の世代が進むにつれて描画に必要とされる精度, 描画速度は急速に高くなっている.本論文では0.15μm世代以降のマスク描画のために開発された要素技術を中心に電子ビームマスク描画装置技術の現状と課題について紹介する.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-12-01
著者
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