炭酸ガスレーザーを照射した人歯エナメル質の破壊靱性について

概要

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炭酸ガスレーザーを照射した人歯エナメル質表面の破壊靱性(K_<IC>)を, マイクロビッカース硬さ試験機を用いる微小圧子圧入破壊法で求めた.レーザーを照射出力1.5W(16J/cm^2)〜12.3W(133J/cm^2)で0.2秒間照射し, 標準測定力(測定荷重)として2.45N(250gf)で破壊靱性試験を行った.レーザーを照射されたエナメル質のK_<IC>は0.24〜0.86MPam^<1/2>, ビッカース硬さ(Hv)は370〜440(3.6×10^3〜4.3×10^3MPa)であった.レーザー非照射エナメル質でのK_<IC>は0.83〜0.94MPam^<1/2>, Hvは400〜440(3.9×10^3〜4.3×10^3MPa)であった.炭酸ガスレーザーをエナメル質に照射した場合, 破壊靱性は全ての場合において低下した.特に4.4W(47J/cm^2)以上の照射から大きく低下しはじめ, 低下率は4.4Wで22.2%, 5.7W(61J/cm^2)で54%であった.累積照射総エネルギーは同一でも, 0.2秒×1回照射と較べると, 一回あたりのエネルギーの少ない0.05秒間×4回照射法ではより大きい出力まで破壊靱性は低下せず, しかも低下率も小さかった.レーザーを照射してK_<IC>が0.41MPam^<1/2>以下になった場合は, 測定力が0.98N(100gf)でも破壊靱性の測定が可能であった.
1990-05-25