LSI設計エキスパートシステムの開発 : (2)セルレイアウト
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概要
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ICの製造技術の進歩にはめざましいものがあり、同じCMOSデバイスでも多種多様な製造プロセスが開発されてきている。ここで、スタンダード.セル方式においては製造プロセスを替える度に、全セルのレイアウトを再設計しなければならない状況にあり、製造プロセス変更に伴うセルパターンのレイアウト設計が開発期間、労力の点で大きな問題となってきている。そこで我々は、特にCMOSにおいて製造プロセスを限定しないセルレイアウト設計エキスパートシステムを開発中であるのでその概要を報告する。
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 1988-09-12
著者
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菊地 一成
キャノン(株) 情報システム研究所
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浅野 俊昭
キャノン(株) 情報システム研究所
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宮崎 俊彦
キャノン株式会社
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安倍 義博
キャノン株式会社
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三村 祐治
キャノン株式会社
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菊地 一成
キャノン株式会社
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浅野 俊昭
キャノン株式会社
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