シームレステクスチャ生成とマッピング
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概要
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シームレステクスチャを四角形領域内に生成する方法を提案した. このシームレステクスチャは, 任意の向きで四角形領域を並べても境界が必ず連続する, 境界連続で内部パターンが異なり, かつ, 境界近傍と内部で質感が変わらないテクスチャを複数生成できる等の特徴がある. これを用いて複数パ夕ーンのシームレステクスチャを予め生成し, レンダリング時にはこの中から適当に選択して向きをランダムに変えながらマッピングすることにより, 1. 少量のマッピングデータを用いて大面積のマッピングがテクスチャの境界を見せることなく可能 2. テクスチャパターンの単純な繰り返しが見えず, あたかも一枚の大面積のテクスチャデータをマッピングしたような効果 3. レンダリング中にテクスチャの計算/生成がない単純マッピングなので処理が高速 等の特徴が得られ, マッピング面積を気にすることなく質の高いテクスチャマッピングをすることが可能となった. また, 本方法は従来のテクスチャマッピングに, 複数のテクスチャからの選択機能, マッピング向きの選択機能を付け加えるだけで良く, 単純な処理なのでハードウェア化も容易である.
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 1996-08-22
著者
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