2816 常圧パルスプラズマ CVD 装置における電離化特性と製膜プロセスの解析
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概要
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This paper describes the analysis about the plasma CVD process. The plasma process popularization is done on the high vacuum Condition But it is hoping for the management under the big atmospheric pressure from the cost side. A making film on atmospheric pressure condition is made a goal by this research. Before the analytic technique which worked DSMC method to the foundation has been developed. We found out a the voltage wave form that start is sudden is good and a wave form is replaced with sufficient time 【a response is promoted】 is better than a short and quick wave form.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2000-07-31
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