106 常圧パルスプラズマCVD装置における電離化特性と成膜プロセスの解析(O.S.1-2 プラズマ(1))(O.S.1 電子・イオン・分子の流れ)

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概要

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• 社団法人日本機械学会の論文
• 2001-09-28

著者

• 梶野 真一

  三重大院

• 加藤 征三

  三重大

• 古畑 勝行

  三重大院

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