[新技術開発レポート1] 超高圧マイクロジェット洗浄法の開発
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概要
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This paper describes an absolutely new precision cleaning method that jets pure water of a micro size from the special nozzle to have compressed more than 11 MPa. The feature of this method dose clean not only the surface but also the inside of the pin hole on the work piece not to scratch or damage it. And a use volume of a pure water is less than an anther precision cleaning method in spite of the wide cleaning area. The super high presser cleaning method obtains a great effect that is especially two applications for manufacturing process of TFT type color LCD (for Rinsing)and of polishing pad of semiconductor Si wafer (for Dressing).
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2000-11-24
著者
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