平板上に設置された有限長円柱まわりの流れ : 円柱長が乱流境界層厚さを越える場合

元データ 1984-02-28

概要

平板上に設置された単一有限長円柱の抵抗特性,うず放出挙動,熱伝達機構を明らかにするため,流力持性変化の著しい細長比,l/d=1〜8の有限長円柱近傍の流れ特性を可視化観察および各種の流れの測定により詳細に調べた.これにもとづき円柱近傍の基本的な流れモデルを提示し,有限長円柱の抗力係数が二次元円柱に比して低下する原因,そしてうず放出周波数の軸方向変化およびうず放出限界細長比の発生する機構を明らかにした.

著者

河村 隆雄 岐阜工業高等専門学校機械工学科
檜和田 宗彦 岐阜大
熊田 雅弥 岐阜大学
檜和田 宗彦 岐阜大工
桧和田 宗彦 岐阜大学工学部
日比野 敏晴 帝人製機(株)
馬渕 幾夫 岐阜大学工学部
熊田 雅弥 岐阜大学工学部
日比野 敏晴 帝人製機

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