Si_3N_4多結晶基板上に合成したc軸配向性LiNbO_3薄膜の繰り返し応力に対する応答性と荷重位置の検知特性
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概要
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LiNbO_3 thin films with c-axis orientation were deposited on polycrystalline Si_3N_4 substrates by means of RF-magnetron sputtering method. Response ability to cyclic stress of the Si_3N_4 specimen coated by LiNbO_3 thin films was evaluated by a 3-point bending fatigue test. The voltage range produced by LiNbO_3 thin films increased linearly with the maximum stress during the cyclic test. The voltage range depended on the frequency of cyclic stress. The position of cyclic compressional load was revealed due to the different generations of voltage signals at a multielectrode placed between the LiNbO_3 thin film and Si_3N_4 substrate.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1999-07-01
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