8p-H-2 NiO/Ni(100)上に吸着したカルボン酸分子の和周波発生(SFG)分光における表面選択則
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1997-09-16
著者
-
久保田 純
東京工業大学資源化学研究所
-
廣瀬 千秋
東京工業大学資源化学研究所
-
堂免 一成
東京大学大学院工学系研究科
-
堂免 一成
東京大学
-
堂免 一成
東工大資源
-
恩田 健
東工大資源研
-
和田 昭英
東工大資源研
-
狩野 覚
法政大学情報科学部
-
狩野 覚
法政大工
-
廣瀬 千秋
東工大資源研
-
久保田 純
東工大資源研
-
塩田 達俊
東工大資源研
-
久保田 純
東京大学大学院工学系研究科
-
湯澤 哲夫
東工大資源研
-
広瀬 千秋
東工大・資源
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