13aXF-5 Si(100) 表面での水素引き抜き反応の角度分布シミュレーション(表面界面ダイナミクス : シリコン・ダイヤモンド, 領域 9)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2004-08-25

著者

• 稲永 征司

  九州工業大学工学部

• 並木 章

  九州工業大学工学部

• 稲永 征司

  九工大工

• 並木 章

  九工大工

• Rahman F.

  九工大工

• 稲永 征司

  九工大

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