並木 章 | 九工大工
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概要
関連著者
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並木 章
九州工業大学工学部
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並木 章
九工大工
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稲永 征司
九州工業大学工学部
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稲永 征司
九工大工
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稲永 征司
九工大
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鶴巻 浩
九工大工
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安藤 寿浩
物質研
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安藤 寿浩
物材機構物質研
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安藤 寿浩
関西大学ハイテクリサーチセンター
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安藤 寿浩
無機材質研
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安藤 寿造
科学技術振興事業団 物資・材料研究機構 物資研究所内
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下川 真一
九工大工
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藤本 利喜雄
九工大工
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安藤 寿浩
無機材研
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新居田 武志
九工大工
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石田 仁志
九工大工
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藤本 利喜雄
九工大・工
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並木 章
九工大・工
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下川 真一
九州工大・工
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安藤 寿浩
物質・材料研究機構
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鎌田 雅夫
分子研
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田中 慎一郎
分子研
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田中 慎一郎
阪大産研
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鎌田 雅夫
佐賀大slセンター
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安藤 寿浩
無機材質研究所先端機能性材料研究センター
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安藤 寿浩
物質・材料研究機構物質研究所
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佐藤 洋一郎
無機材研:crest
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安藤 寿浩
無機材質研究所
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李 志華
ソウル大
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松野 敏和
九工大工
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黒木 英介
九工大工
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岩村 和幸
九工大工
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Rahman F.
九工大工
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Rahmann F.
九工大工
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藤本 利喜夫
九工大工
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Khanom F.
九工大
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高峰 裕一
豊橋技科大
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麻生 圭太
豊橋技科大
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小浜 美咲
豊橋技科大
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西川 峻一
九工大工
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古賀 祐太郎
九工大工
著作論文
- 31a-S-7 水素原子によるシリコン表面吸着水素抜き取り反応、キネティクスI
- 27aWB-10 2水素化Si(100)表面からの水素脱離ダイナミックス(表面・界面構造, ダイナミクス,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 13aXF-4 被覆度に依存した水素熱脱離ダイナミックス(表面界面ダイナミクス : シリコン・ダイヤモンド, 領域 9)
- 27pPSA-41 水素終端Si(100)表面における気相窒素原子誘起の水素脱離反応(領域9ポスターセッション)(領域9)
- 28pPSB-41 酸素吸着 Si(100) 表面での気相水素原子による吸着水素脱離反応
- 13aXF-5 Si(100) 表面での水素引き抜き反応の角度分布シミュレーション(表面界面ダイナミクス : シリコン・ダイヤモンド, 領域 9)
- 27pPSA-35 Si(100)表面での水素引き抜き反応シミュレーション(領域9ポスターセッション)(領域9)
- 28aZF-11 反応速度式による水素照射中の Si 表面の水素被覆率
- 25aW-13 水素原子とC, Si, Ge(100)表面の相互作用
- Cl/Cs/Si(100)系の内殻光電子分光
- 27pPSA-45 表面吸着反応におけるスピン効果観測のための装置の製作(27pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))