Si表面上のSiO_2膜のB_2O_3拡散に対するMask作用 : 半導体

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1961-04-03

著者

• 山口 次郎

  阪大基礎工

• 山口 次郎

  阪大工

• 堀内 司朗

  阪大基礎工

• 堀内 司朗

  阪大工

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