タバコにおける光要求型除草剤耐性の分子的基盤
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
大腸菌のprotoporphyrinogen oxidase(Protox)遺伝子欠損変異株(SASX38)を用いた遺伝的相補法によって, タバコ葉から葉緑体及びミトコンドリア型Protox cDNAを単離し, 全塩基配列を解明した.得られた塩基配列情報を利用し, 光要求型除草剤pyraflufen-ethyl耐性タバコ細胞ETR-245株及び感受性株から, RT-PCRによって各々2種のProtox cDNAを増幅した.これらProtox cDNAによって生育を相補した大腸菌SASX38株に対するpyraflufenethylの生育阻害度を測定し, 各遺伝子産物のpyraflufenethylに対する感受性を比較した.ミトコンドリア型遺伝子産物には感受性の差は認められなかったが, 葉緑体型遺伝子産物ではETR-245株由来のものは感受性株由来のものに比べ, 4000倍以上の耐性を示した.さらに, これら葉緑体型Protox cDNAの全塩基配列を比較した結果, 1塩基にのみアミノ酸置換を伴う塩基の変異が認められた.したがって, この変異がETR-245株における光要求型除草剤耐性の原因であることが明らかとなった.
- 日本農薬学会の論文
- 1999-02-20
著者
-
堀越 守
日本農薬株式会社
-
廣岡 卓
日本農薬株式会社
-
廣岡 卓
日本農薬
-
堀越 守
Research Center, Nihon Nohyaku Co., Ltd.
-
豆塚 弘毅
Research Center, Nihon Nohyaku Co., Ltd.
-
廣岡 卓
Research Center, Nihon Nohyaku Co., Ltd.
-
豆塚 弘毅
Research Center Nihon Nohyaku Co. Ltd.
関連論文
- SI8 新規殺虫剤フルベンジアミド(フェニックス^【○!R】)の創製(ブレークスルーをもたらす農薬デザイン)
- 鱗翅目害虫に高い活性を有する新規害虫防除化合物フルベンジアミド
- C103 新規殺虫剤フルベンジアミド(フェニックス^【○!R】)に関する研究(第1報)合成と生物活性
- A209 新規殺菌剤チアジニル(ブイゲット^【○!R】)に関する研究 (第1報) : チアジニル(ブイゲット^【○!R】)の合成
- (225) 水面拡散型フルトラニル (モンカット^) 新製剤によるイネ紋枯病防除 : (第1報) 圃場効果 (日本植物病理大会)
- Burkhol-deriaglumaeによるイネ苗腐敗症の病徴発現におけるトキソフラビンの役割
- (287)イネもみ枯細菌病菌のToxoflavin生合成関連遺伝子のクローニングについて(平成9年度日本植物病理学会大会講演要旨)
- (218) イネもみ枯細菌病菌へのTn挿入による病原性およびトキソフラビン生産性の欠失変異株について (日本植物病理大会)
- (181) 水面施用されたフルトラニル(モンカット^)のイネ紋枯病防除機構 : 光学顕微鏡および走査電子顕微鏡観察 (昭和63年度日本植物病理学会大会講演要旨)
- (400)新規殺菌剤フェノキサニル(NNF-9425,AC382042,アチーブ)のイネいもち病菌二次感染阻害効果について ; 圃場における二次感染阻害効果およびいもち病菌分生胞子のストレス耐性低下(平成14年度 日本植物病理学会大会講演要旨)
- 同一レタス葉における lux 標識 Pseudomonas cichorii の増殖と移行および宿主の反応の経時的観察
- B208 新規殺虫剤フルベンジアミド(フェニックス^・)に関する研究(第5報) : ^3H-フルベンジアミドのハスモンヨトウ膜画分に対する特異的結合
- A112 新規殺虫剤フルベンジアミド(フェニックス^【○!R】)に関する研究 (第2報) : リアノジン受容体活性化と細胞内カルシウム動態への影響
- D307 新規殺虫剤フルベンジアミド(フェニックス^[○!R])に関する研究(第4報) : 昆虫特異的なリアノジン受容体(カルシウムチャネル)活性化と筋収縮作用(一般講演)
- C105 新規殺菌剤チアジニル(ブイゲット^【○!R】)に関する研究 (第3報) : チアジニルの作用機構
- A122 光要求型除草剤耐性植物の作出(第 3 報) : ET-751 耐性型 Protox cDNA を導入した形質転換タバコの ET-751 に対する耐性
- タバコにおける光要求型除草剤耐性の分子的基盤
- 光要求型除草剤耐性タバコ細胞の選抜
- B112 光要求型除草剤耐性植物の作出(第 2 報) : ET-751 耐性タバコ細胞における耐性機構の分子生物学的解析
- B111 光要求型除草剤耐性植物の作出(第 1 報) : 光要求型除草剤 ET-751 耐性タバコ細胞の選抜
- (207)lux CDABEを導入した生物発光Pseudomonas solanacearumの青枯病抵抗性植物における挙動(平成9年度日本植物病理学会大会講演要旨)
- (204)レタス葉におけるPseudomonas cichorii増殖の同調化とタンパク質合成(平成9年度日本植物病理学会大会講演要旨)
- (36) レタス葉維管束におけるPseudomonas cichoriiの増殖とレタス腐敗病の病徴の拡大との関係 (東北部会)
- (35) luxCDABEオペロンを導入したPseudomonas solanacearumのトマトにおける生物発光 (東北部会)
- 生物発光Pseudomonas cichoriiのレタス葉における挙動
- (188) 生物発光するPseudomonas cichoriiのレタス葉における挙動とレタス腐敗病の発病との関係 (日本植物病理大会)
- (197) 細菌モニタリングにおける発光遺伝子の利用 : (2) 画像解析システムによる植物病原細菌の検出 (日本植物病理学会大会)
- (173) 細菌モニタリングにおける発光遺伝子の利用 (平成2年度大会講演要旨)
- (167) イネもみ枯細菌病菌(Pseudomonas glumae)の病原力に関与する遺伝子の探索 (平成2年度大会講演要旨)
- 植物保護とバイオテクノロジー : バイオテクノロジー技術の農薬研究への応用
- プロトックス阻害型除草剤耐性植物の作出に関する基礎研究
- C104 新規殺菌剤チアジニル(ブイゲット^【○!R】)に関する研究 第2報 : チアジニルのイネいもち病および各種病害に対する効果
- (232)新規殺菌剤NNF-9850(チアジニル,ブイゲット[○!R])に関する研究 第4報 コムギうどんこ病防除効果の作用機構(平成15年度日本植物病理学会大会講演要旨)
- (231)新規殺菌剤NNF-9850(チアジニル,ブイゲット[○!R])に関する研究 第3報 側条施用によるイネ病害に対する防除効果(平成15年度日本植物病理学会大会講演要旨)
- (402)新規殺菌剤NNF-9850(チアジニル,ブイデット)に関する研究 第2報 イネ病害に対する防除効果(平成14年度 日本植物病理学会大会講演要旨)
- (401)新規殺菌剤NNF-9850(チアジニル,ブイゲット)に関する研究 : 第1報イネいもち病防除効果の作用機構(平成14年度 日本植物病理学会大会講演要旨)
- (375)新規殺菌剤NNF-9425(フェノキサニル, AC382042, アチーブ^[○!R])粒剤の穂いもち防除効果と圃場におけるイネ穂中フェノキサニル濃度との関係
- (374)新規殺菌剤NNF-9425(フェノキサニル, AC382042, アチーブ^[○!R]のイネいもち病二次感染阻害効果;種々の条件における二次感染阻害効果および胞子離脱阻害要因の解析
- 新規殺菌剤NNF-9425(フェノキサニル;ISO申請中, AC382042)の圃場におけるイネもち病防除効果
- 新規殺菌剤NNF-9425(フェノキサニル;ISO申請中, AC382042)のイネいもち病菌の生活環に及ぼす影響
- 1993〜96年における圃場分離イネいもち病菌のイソプロチオラン, IBPおよびEDDPに対する感受性モニタリング
- (226) 水面拡散型フルトラニル (モンカット^) 新製剤によるイネ紋枯病防除 : (第2報) 防除機構 (日本植物病理大会)
- (20) 1993年圃場分離イネいもち病菌の薬剤感受性 (日本植物病理大会)
- 浸透性殺菌剤フルトラニルのコハク酸酸化阻害に伴う Rhizoctonia solani の形態的変化
- (219) Phytophthora capsiciによるトマト根腐れに対するイソプロチオラン(フジワン^)の発病抑制作用 (平成元年度日本植物病理学大会講演要旨)
- (205) イネ紋枯病菌に及ぼすフルトラニル(モンカット^)の形態学的影響 (平成元年度日本植物病理学大会講演要旨)
- 新規除草剤ET-751 : 作用特性,選択性発現機構および耐性植物の作出
- D306 新規殺虫剤フルベンジアミド(フェニックス^[○!R])に関する研究(第3報) : 殺虫スペクトルおよび鱗翅目害虫に対する作用特性(一般講演)
- 殺虫剤フルベンジアミドの開発(学会賞受賞論文(業績賞・技術))
- 1S-4 殺虫剤フルベンジアミドの開発(業績賞(技術),受賞講演要旨)