走査型トンネル顕微鏡および分子動力学法によるグラファイトの原子レベル材料除去機構の考察
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概要
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Atomic-level material removal process of HOPG (Highly Oriented Pyrolytic Graphite) is analyzed by STM (Scanning Tunneling Microscope) and MD (Molecular Dynamic) simulation. By using STM tip scanning system, the material removal such as indentation and scratching is carried out in atomic scale. This deformation process is also analyzed by MD computer simulation. The trace on several nanometers generated by STM tip machining is observed, but undeformed region which shows typical atomic arrangement of graphite is recognized near from the deformation region. Good consistency between experiment and calculation can be found.
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 1998-11-05
著者
-
上田 完次
神戸大学工学部機械工学科
-
真鍋 圭司
Univ. California. Dept. Mech.
-
平野 智之
神戸大学工学部
-
傳 恵南
神戸大学工学部
-
真鍋 圭司
神戸大学工学部
-
平野 智之
神戸大学工学部:(現)(株)東芝
-
傅 恵南
神戸大学工学部
-
上田 完次
神戸大学工学部
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