単結晶シリコンの異方性エッチング液の選択指針
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概要
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Many researchers have selected a favorable anisotropic etchants from the viewpoint of its anisotropy, safety, selectivity, and conformity to LSI production process, however, guideline for selecting favorable anisotropic etchants is not yet established. The present paper has established a guideline for selecting a favorable anisotropic etchant from the experimental results with finished profiles under water-dissolved CsOH etchant, and proposed two-step etching process which consists of the first etching under water-dissolved KOH etchant and the second etching under water-dissolved CsOH etchant.
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 1998-01-05
著者
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