<研究成果報告>アモルファス・シリコンの光誘起現象(III)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- マイクロ波励起高密度プラズマCVDによって細穴内面に成膜されたDLC膜の摩擦摩耗特性
- 355 MVP法による細管内面プラズマ生成への電磁波周波数の影響(OS5-2トライボロジーの基礎問題2)
- 1F20 二次関数近似によるDAP形ネマティック液晶セルの応答特性
- 4V05 二次関数近似によるネマティック液晶の電気光学効果の応答特性
- 不均一構造に起因するアモルファスシリコンの交流伝導
- 29a-S-1 a-Si:Hにおけるダングリングボンドの光誘起アニールIII
- アモルファス・シリコンの光誘起現象(III)
- アモルファス ・ シリコンの光誘起現象II(中間報告)
- 3B10 ECB型液晶セルを用いた色識別素子の識別法とその精度
- SnO2薄膜の感湿特性
- 3Z19 ECB型液晶セルを用いた色識別素子
- 高周波スパッタAl2O3薄膜の感湿特性
- CdS薄膜トランジスタの電気特性
- シリコン酸化膜の液晶技術による欠陥検出とその特性
- SiO2高周波スパッタ絶縁薄膜の誘電特性
- 3W11 光学的相減現象を用いたネマチック液晶の電気光学効果特性
- SiO蒸着薄膜のフォ-ミング過程と負性抵抗特性
- 4U14 逆プレティルト型ネマティック液晶セルの電圧印加による分子配向特性
- 混合液晶の電気光学的メモリ-効果の応答特性
- SiO蒸着絶縁薄膜の誘電特性
- 1R14 ネマチック液晶による逆プレティルトセルの分子配向の印加電圧依存性
- SiO低蒸着速度絶縁薄膜の導電特性
- 1Q12 混合液晶の電気光学的メモリー効果の応答特性
- ネマチック液晶の電界制御型複屈折効果の過渡応答特性
- 3S06 ネマティック液晶の電界制御複屈折効果における印加周波数依存性
- (1) 岐阜大学工学部の学科改編・新設とカリキュラム改革 : 主として新入生に対する教育(フレッシュマンセミナー)について(第1セッション 教育システム(1))
- ワイドギャップ導電性アモルファス酸化物の化学設計と電子輸送特性
- アモルファス物質の光不安定性-体積変化と欠陥-
- 乱れた系における動的電気伝導の普遍性
- アモルファス半導体における局在電子のマルチフォノン・ホッピング伝導
- 6a-LT-4 非晶質半導体の"実効的光学ギャップ"モデル
- グロー放電アモルファス・シリコンの反射率と吸収係数