ゾルーゲル法によるWドープVO_2-SiO_2ハイブリッドナノ粒子の合成に及ぼすプロセスパラメータの影響
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概要
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- 2011-10-15
著者
-
鈴木 久男
静岡大学工学部物質工学科
-
坂元 尚紀
静岡大学 工学部 物質工学科
-
脇谷 尚樹
静岡大学 工学部 物質工学科
-
脇谷 尚樹
静岡大学工学部
-
宮崎 英敏
島根大学 総合理工学部 物質科学科
-
太田 敏孝
名古屋工大 セラミックス基盤工研セ
-
太田 敏孝
名古屋工業大学
-
Suzuki H
Research Institute For Electronic Science Hokkaido University
-
Suzuki H
Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima‐shi Jpn
-
坂元 尚紀
静岡大学工学部
-
鈴木 久男
静岡大学工学部:静岡大学大学院
-
宮崎 英敏
島根大学総合理工学部物質化学科
-
楠本 直子
静岡大学工学部物質工学科
-
佐々木 詩織
静岡大学工学部物質工学科
-
鈴木 久男
静岡大学工学部
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