位相マスク干渉法によるファイバブラッググレーティングを用いた負帰還半導体光増幅器の雑音抑制効果
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概要
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- 2010-03-15
著者
-
高木 正和
タツタ電線株式会社
-
中山 秀樹
光トライオード株式会社
-
高木 正和
静岡県立総合病院外科
-
高木 正和
タツタ電線株式会社 研究開発部
-
前田 佳伸
近畿大学 理工学部電気電子学科
-
谷本 浩一
近畿大学 理工学部電気電子学科
-
松尾 達弥
近畿大学 理工学部電気電子学科
-
中山 秀樹
光トライオード(株)
-
高木 正和
タツタ電線
-
高木 正和
静岡県立総合病院消化器
-
高木 正和
静岡県立総合病院消化器センター外科
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