MOCVD用新規有機銅錯体の評価と銅膜の形成
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概要
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- 1995-11-30
著者
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小木 勝実
三菱マテリアル
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佐藤 正光
三菱マテリアル(株)総合研究所材料技術研究所
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小木 勝実
三菱マテリアル(株)総合研究所材料技術研究所
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齋 篤
三菱マテリアル(株)総合研究所材料技術研究所
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内田 寛人
三菱マテリアル(株)
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斎藤 記庸
三菱マテリアル(株)