(5) 次世代半導体配線用新規Cu錯体の評価とCu膜の作製

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概要

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著者

• 小木 勝実

  三菱マテリアル

• 佐藤 正光

  三菱マテリアル(株)総合研究所材料技術研究所

• 小木 勝実

  三菱マテリアル(株)総合研究所材料技術研究所

• 齋 篤

  三菱マテリアル(株)総合研究所材料技術研究所

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