減圧アニール法によるゾルゲルSrBi_2Ta_2O_9薄膜の低温形成

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概要

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• 電気学会の論文

著者

• 伊藤 康幸

  シャープ(株)超lsi開発研究所

• 牛久保 真帆

  シャープ

• 横山 誠一

  シャープ

• 松永 宏典

  シャープ

• 厚木 勉

  三菱マテリアル

• 米澤 政

  三菱マテリアル

• 小木 勝実

  三菱マテリアル

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