イオンプレｰティング法によるTbFe_x超磁歪薄膜の作製
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概要
- 論文の詳細を見る
- 1999-08-15
著者
-
MATSUMURA Yoshihito
Department of Applied Physics､Faculty of Engineering, Tokai University
-
UCHIDA Hirohisa
Department of Applied Physics､Faculty of Engineering, Tokai University
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YAMAMOTO Kensuke
Department of Materials Science and Engineering, Nagoya University
-
Uchida Hirohisa
Department Of Applied Physics
-
Uchida Hirohisa
Department Of Applied Physics Tokai University
-
Uchida Hirohisa
Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Tokai University
-
Uchida Hirohisa
Department Of Chemical Engineering Tokyo University Of Agriculture And Technology (tuat)
-
Yamamoto Kensuke
Department Of Applied Physics Tokai University
-
SUMI Tomotaka
Department of Applied Physics, Tokai University
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Sumi Tomotaka
Department Of Applied Physics Tokai University
-
Uchida H
Department Of Human Development Tokai University
-
DOUDA Yoshiki
Department of Applied Physics, Tokai University
-
ONO Masamoto
Department of Applied Physics, Tokai University
-
Ono Masamoto
Department Of Applied Physics Tokai University
-
Douda Yoshiki
Department Of Applied Physics Tokai University
-
Matsumura Yoshihito
Department Of Energy Science And Engineering School Of Engineering Tokai University
-
Matsumura Y
Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Tokai University
-
Matsumura Yoshihito
Department Of Applied Physics Tokai University
-
Matsumura Yoshihito
Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Tokai University
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