High Responsiveness Induced by Palladium Deposition on Thin Film Actuator of LaNi_5 Hydrogen Storage Alloy
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概要
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- Japan Institute of Metalsの論文
- 2005-01-20
著者
-
NISHI Yoshitake
Department of Metallurgical Engineering, Graduate School of Engineering, Tokai University
-
UCHIDA Haru-Hisa
Department of Human Developments, Tokai University
-
Uchida Hirohisa
Department Of Applied Physics Tokai University
-
Uchida Hirohisa
Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Tokai University
-
Uchida Hirohisa
Department Of Chemical Engineering Tokyo University Of Agriculture And Technology (tuat)
-
Nishi Yoshitake
Department Of Materials Science Tokai University
-
HONJO Takamitsu
Department of Materials Science, TOKAI University
-
Uchida H
Department Of Human Development Tokai University
-
Uchida Haru-hisa
Department Of Human Development Faculty Of Humanity And Culture Tokai University
-
Nishi Y
Tokai Univ. Hiratsuka Jpn
-
Honjo Takamitsu
Department Of Applied Chemistry School Of Engineering Tokai University
-
Honjo Takamitsu
Department Of Materials Science Tokai University
-
Nishi Yoshitake
Department Materials Science Tokai University
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