超音波減衰分光法による低濃度分散系におけるシリカ粒子径分布評価
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概要
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超音波減衰分光法により，低濃度分散系において球状シリカ粒子の粒子径分布測定を行い，結果をX線透過法による測定結果と比較した．その結果，超音波減衰スペクトラムから粒子径分布を計算する際に必要な減衰係数に着目すると，シリカ粒子径が大きくなるとともに粘性ロスに加えて散乱ロスの影響が増すことを明らかにした．さらに，粘性ロスと散乱ロスを考慮した減衰係数により粒子径分布を計算すると，X線透過法による粒子径分布測定結果と良い一致が得られることを示した．
- 社団法人 化学工学会の論文
- 2003-05-20
著者
-
内藤 牧男
(財)ファインセラミックスセンター
-
堀田 禎
(財)ファインセラミックスセンター
-
中平 兼司
(財)ファインセラミックスセンター
-
堀田 禎
財団法人ファインセラミックスセンター
-
嶋田 博己
日本ガイシ(株)
-
阿部 浩也
(財)ファインセラミックスセンター
-
鈴木 能大
日本ガイシ(株)
-
米倉 健二
日本ガイシ(株)
-
加藤 仁也
日本ガイシ(株)
-
嶋田 博己
日本ガイシ (株)
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