プラナリゼーションCMPプロセスとそれを実現する装置システムの方向
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2000-03-01
著者
関連論文
- 超LSIデバイスウエハのプラナリゼーションCMP技術( 専門委員会・分科会研究レビュー) : プラナリゼーション加工/CMP応用技術専門委員会
- プラナリゼーション/CMPとその応用
- 機械的プラナリゼーション加工技術の現状と今後の課題(機械的プラナリゼーション技術)
- プラナリゼーションCMPプロセスとそれを実現する装置システムの方向
- 磁気ヘッドの電磁気特性におけるエッジ形状品質(edge の機能と評価・管理)
- Cu-CMP 用研磨液の開発 -pH調整による研磨速度の高速化
- Cu配線とCMPによるプラナリゼーション