硫黄酸化細菌による写真廃液処理後のフェントン処理における最適な過酸化水素使用量について
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概要
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- 1997-10-15
著者
-
細見 正明
東京農工大学
-
村上 昭彦
東京農工大学工学部物質生物工学科
-
村上 昭彦
東京農工大学工学部
-
村上 昭彦
東京農工大学
-
林 彬勒
東京農工大学大学院工学部化学工学科
-
林 彬勒
東京大学生産技術研究所
-
村上 昭彦
東京農工大学工学部応用化学科
-
細見 正明
東京農工大 大学院
-
村上 明彦
東京農工大学工学部物質生物工学科
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