高濃度COD, アンモニア性窒素を含む写真廃液の処理プロセスに関する研究
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概要
著者
-
細見 正明
東京農工大学
-
村上 昭彦
東京農工大学工学部物質生物工学科
-
村上 昭彦
東京農工大学工学部
-
村上 昭彦
東京農工大学
-
横井 亜希
東京農工大学大学院工学部化学工学科
-
林 彬勒
東京農工大学大学院工学部化学工学科
-
太野 公人
東京田辺製薬(株)
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林 彬勒
東京大学生産技術研究所
-
横井 亜希
東京農工大学工学研究科物質生物工学専攻
-
村上 昭彦
東京農工大学工学部応用化学科
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細見 正明
東京農工大 大学院
-
村上 明彦
東京農工大学工学部物質生物工学科
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