第4回ケミカルビームエピタキシー国際会議 : (4th International Conference on Chemical Beam Epitaxy) 報告

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 日本真空協会の論文
• 1993-10-20

著者

• 松本 功

  日本酸素(株)つくば研究所

• 松本 功

  日本酸素 つくば研

• 松本 功

  日本酵素(株)つくば研究所

関連論文

• 自然超格子を有するGaInP/GaAsヘテロ構造におけるホトルミネッセンスアップコンバージョンの高圧及び高磁場を用いた研究
• SC-7-8 窒化物系半導体用MOCVD装置
• 窒化物MOVPE成長装置
• 表面処理に利用するガス
• 第7回有機金属気相成長国際会議
• 有機金属気相成長法によるIII-V化合物半導体量産コストと製造装置
• 第4回ケミカルビームエピタキシー国際会議 : (4th International Conference on Chemical Beam Epitaxy) 報告
• 大気圧MOVPE成長AlGaNにおける気相反応とその量子化学的検討
• 大気圧MOVPE成長AlGaNにおける気相反応とその量子化学的検討
• 半導体レーザ分光によるステンレス上吸着水とトリクロロシランの不均一系反応の研究
• 材料 [IV] : 5.ガス材料と利用技術

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク