13th International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2002-01-31
著者
関連論文
- 26aXA-6 Co(0001) Fermi surface and band structure with Soft X-ray ARPES : measuring the ground state correlations
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 固体における光電子の反跳効果 : 硬X線領域の新しいパラダイム(最近の研究から)
- [特別講演]高輝度放射光を利用した光電子分光法による半導体の電子構造評価(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- 硬X線光電子分光による界面・バルク電子状態の研究
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性
- ラジカル酸化および熱酸化により形成した極薄シリコン酸化膜中の電子の脱出深さ(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 硬X線光電子分光
- 13th International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics
- 4th International Workshop on Auger Spectroscopy and Electronic Structure (研究会報告)
- International Workshop on Resonant Inelastic Soft X-ray Scattering