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Ntt Electronics Technology Corporation | 論文
- 22pZF-5 極紫外FELによる原子・クラスター多重イオン化実験III. : クラスター多重イオン化のレーザー波長・レーザー強度依存性(22pZF 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 22pZF-4 極紫外FELによる原子・クラスター多重イオン化実験II. : クラスター多重イオン化のサイズ依存性(22pZF 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 22pZF-3 極紫外FELによる原子・クラスター多重イオン化実験I. : 反跳イオン運動量分光による高次光分布測定(22pZF 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 軟X線多層膜鏡の形状誤差補正のための大面積イオン銃を用いたミリング装置の開発
- 超高精細バイオイメージング用波面補正軟X線多層膜ミラーの開発
- 傾斜エリプソメトリーによる3次元形状計測 (特集 偏光計測)
- 偏光利用による3次元リアルタイム計測法の開発
- 正反射による物体表面の傾斜エリプソメトリー : 精密実時間形状計測への基本概念
- X線ミラー多層膜 (特集欄 ナノテクノロジーにおけるものづくり) -- (真空中で作製するナノ構造)
- 軟X線多層膜光学
- 水晶振動子を用いたバイブロスキャニング法による非導電体の微細形状計測
- バイブロスキャニング法を用いた微細形状測定システムの開発
- 24aC2 偏光解析法による氷結晶粒界での疑似液体層の検出(結晶成長のその場観察II)
- 圧電センサを用いた共振型バイブロスキャン法の開発
- 軟X線多層膜と応用の現状(EUV基盤技術とその応用の現状)
- 31a-YM-6 Ni薄膜のM吸収端におけるファラデー効果
- バイブロスキャン微細穴形状測定装置の開発
- New Ellipsometric Approach to Critical Dimension Metrology Utilizing Form Birefringence Inherent in a Submicron Line-and-Space Pattern
- 5a-G-1 透過型多層膜を用いた軟X線偏光分光法 I
- 軟 X 線エリプソメトリー