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Necエレクトロニクス株式会社 先端デバイス開発部 | 論文
- 垂直磁化磁壁移動セルを用いた高速低電流MRAM(低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用)
- SoC混載に適した垂直磁化磁壁移動型MRAM
- MRAMの技術動向、今後の展開、32MbMRAM開発(メモリ技術)
- CuAl合金配線を適用した32nmノード対応高信頼性配線技術の開発(配線・実装技術と関連材料技術)
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- 45nm CMOSアプリケーション毎の配線構造最適化のための設計コンセプト:ASIS(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- 微細銅配線において車載信頼性を実現するための新抵抗率評価手法(配線・実装技術と関連材料技術)