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Department of Biochemical Engineering and Science Kyushu Institute of Technology | 論文
- 電流検出型原子間力顕微鏡を用いたゲート絶縁膜の局所リーク電流評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 電子注入ストレスを加えたゲート酸化膜の電流検出型原子間力顕微鏡による解析 : ゲート絶縁膜劣化機構の微視的評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- シリコン表面の窒化初期過程とエネルギーバンドギャップの形成
- CS-5-2 Si_Ge_X/Si(001)構造における転位および歪の評価と制御技術(CS-5.異種材料融合デバイス技術,シンポジウム)
- ラジカル窒化過程におけるエネルギーバンドギャップ形成機構のSTM/STS解析(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 1-P-20 Effects of Endurance Exercise on Capillary Network in Non-Insulin-Dependent Diabetic muscle(The Proceedings of the 18th Annual Meetings of Japan Society Exercise and Sports Physiology Jury 31 August 1, (Kagoshima))
- Metabolic Flux Analysis for Biosynthesis of Poly(β-Hydroxybutyric Acid) in Alcaligenes eutrophus from Various Carbon Sources
- Efficient Production of Vitamin B_ from Propionic Acid Bacteria under Periodic Variation of Dissolved Oxygen Concentration
- Application of Artificial Neural Network and Fuzzy Control for Fed-Batch Cultivaton of Recombinant Saccharomyces cerevisiae
- 水中におけるDNA-フラーレン会合体の形成(ナノ空間と分析化学)
- Cleaning of a Stainless Steel Surface Fouled with Protein Using a UV-H_2O_2 Technique
- ラジカル窒化法によるHigh-k/Ge界面構造制御(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- LaAlO/Ge構造へのALD-Al_2O_3界面制御層挿入の効果(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- Ge表面酸化および窒化処理と High-k ゲートスタック構造形成プロセス
- 超高密度・極微細シリコンナノドットの形成技術とメモリ特性 (特集1 次世代不揮発メモリーの開発・高集積化とその市場)
- πHydrogen Bond Between Dipeptide Side Chains as a Structural Essential for Chymotrypsin Inhibition
- 1P150 1D1435 アクチン重合とそれに伴うATPase活性化の構造的基盤(筋肉(筋蛋白質・収縮),口頭発表,第48回日本生物物理学会年会)
- Characteristics of α-Glucosidase Production from Recombinant Aspergillus oryzae by Membrane-Surface Liquid Culture in Comparison with Various Cultivation Methods(MICROBIAL PHYSIOLOGY AND BIOTECHNOLOGY)
- Production of Nonproteinaceous Amino Acids Using Recombinant Escherichia coli Cells Expressing Cysteine synthase and Related Enzymes with or without the Secretion of O-Acetyl-L-Serine (MICROBIAL PHYSIOLOGY AND BIOTECHNOLOGY)
- 1P325 小さい生体分子複合体のためのクライオ電子顕微鏡法の挑戦(バイオイメージング,第48回日本生物物理学会年会)
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