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首都大学東京理工学研究科電気電子工学専攻 | 論文
- 酵母の熱耐性に基づいた電磁界の影響評価
- C-10-10 テラヘルツ帯オンチップ自己補対アンテナの広帯域特性に対する半導体集積構造の影響(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- C-10-4 GaAs基板上微小自己補対アンテナのTHz帯放射特性の解析(C-10.電子デバイス,一般講演)
- THz帯オンチップ集積型自己補対アンテナの特性解析(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
- C-10-9 半導体基板上自己補対アンテナの給電構造が広帯域特性に及ぼす影響の理論解析(C-10.電子デバイス,一般講演)
- B-1-142 ミリ波帯小型平面自己補対スパイラルアンテナの広帯域特性のサイズ依存性(B-1.アンテナ・伝播B(アンテナ一般),一般講演)
- 微分負性抵抗領域にバイアスされた共鳴トンネルダイオードの緩和振動抑制条件の理論解析(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 感温液晶マイクロカプセルを用いたミリ波曝露による対流現象の解析
- 三重障壁共鳴トンネルダイオードの特性解析とモデリング(センサデバイス,MEMS,一般)
- C-10-4 三重障壁共鳴トンネルダイオードを用いたミリ波・サブミリ波帯におけるゼロバイアス検波の理論解析(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- C-10-3 共鳴トンエルダイオードにおける自励振動抑制条件の理論解析(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- ミリ波と流体の相互作用を考慮したドシメトリに関する検討(EMC,一般)
- Si(111)基板上での30゜回転InSb薄膜層形成に対するIn及びSb層の効果(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性,一般))
- Si(111)-√7×√3-In表面再構成構造を介したInSb薄膜のヘテロエピタキシャル成長(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性,一般))
- Si基板上のInSb単分子初期層を介した高品質InSb薄膜形成(化合物半導体プロセス・デバイス・一般)
- Si(111)-(7×7)再構成表面上におけるInナノクラスター配列構造上へのSb吸着(薄膜プロセス・材料,一般)
- B-1-95 小型平面型ログスパイラルアンテナの広帯域特性の端部形状依存性の解析(B-1.アンテナ・伝播B(アンテナ一般),通信1)
- B-4-23 家兎眼ミリ波ばく露における前房内温度・速度同時測定手法の開発(B-4.環境電磁工学,一般セッション)
- C-10-19 共鳴トンネルダイオードにおける自己バイアス効果を考慮した動特性解析(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- 粒子群最適化手法を用いた三重障壁共鳴トンネルダイオードの非線形等価回路の同定(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
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