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静岡大 電子工研 | 論文
- 11a-H-8 アモルファスAs_2Se_3の光学的性質 I
- InAs基板上の液相エピタキシャルGa_1-xIn_xAs_1-ySb_y層の光学的性質
- 化合物半導体蒸着膜の形成と構造
- Remote Plasma Deposition of a-SiC:H Films Using Novel Source Material
- Mechanism of Plasma Assisted a-SiC:H Film Deposition
- Variation of Stress and Hardness of a-Sic:H Films with Film Composition
- リモートプラズマCVD法による有機金属錯体からの銅薄膜の作製と反応過程
- Remote Plasma SiO_2 Deposition by Tetraethoxysilane with Chemically and Energetically Different Atomic Species
- Photoluminescent Properties of a-SiC:H Films Deposited by Organosilanes in Remote H2 Plasma
- リモートプラズマCVD法による有機シリコン材料からのシリコン系ワイドギャップ半導体薄膜の作製
- 水素リモートプラズマアフターグローによる有機金属錯体からの銅薄膜の堆積と評価
- Superiority of O(^1D) atom for solid and gas phase reactions over O(^3P) atom
- Properties of Atomic Oxygen obtained from Thermodynamically Non-equilibrium High Temperature Plasma
- フライバック・フォワード複合電圧共振型DC-DCコンバータ
- バック・コンバータとフォワード・コンバータを継続したスイッチング電源
- フライバック・フォワード複合電圧共振型DC-DCコンバータ
- WO_3膜のエレクトロクロミック特性に対する結晶化の効果
- 固体電解質Ta_2O_5の水素導入スパッタ膜の作製とECセルへの応用
- 酸化タングステンEC膜における残留電荷と赤外吸収
- スパッタ法によるTiO_2膜の作製とEC特性