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産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門 | 論文
- 31p-YM-11 磁性ナノクラスターの内殻磁気円二色性I:Coドット
- 31p-YM-10 Au/Fe-wedge/Au 三層膜の内殻吸収磁気円二色性
- 30p-YC-12 Co/Pt多層膜のフォノン・ラマン散乱II
- エピタキシャルFe(001)、(110)成長面の1.5〜10eV領域の磁気光学スペクトル
- Co/Pt多層膜のフォノン・ラマン散乱
- Co/Pt多層膜のCo L_吸収端磁気円二色性II
- 1. 6-10eVにおけるエピタキシャルFe膜の磁気光学効果
- 27p-W-5 Co/Pt多層膜のCoL_2, 3吸収端磁気円二色性
- 23pSB-3 酸化物希薄磁性半導体Zn_TM_xO(TM:遷移金属)の磁気光学スペクトル
- 軽元素ドープしたNi_3Alの電子状態
- CO+NH_3を用いたエッチングにより形成したTMR素子
- 28aTB-6 新III-V 族希薄磁性半導体Ga_Cr_xAsの伝導特性
- 23pSB-12 III-V族新希薄磁性半導体(Ga,Cr)Asの磁気的性質
- FeおよびCr(001)薄膜の表面ナノ磁性
- データセンター用SSD向けFerroelectric (Fe)-NANDフラッシュメモリと不揮発性ページバッファ(フラッシュメモリ,メモリ(DRAM, SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- MnSb薄膜の作製及びその磁気光学効果の基板依存性
- 29a-PS-57 MnSb薄膜の作製とその磁気光学効果
- アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- アモルファスシリコンを用いた積層型方向性結合器の試作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- 29aWD-8 スピン偏極 STS による Cr(001) 超薄膜の表面磁区観察
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