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産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門 | 論文
- ポリイミドフィルムのスパッタリングにおける放電ガスへのN_2の添加効果
- スパッタリング用プラズマ
- TiスパッタリングにおけるTiのイオン分率
- 組成変調型多層構造薄膜における高強度化機構の実験的検証
- Al, Cu-TiN薄膜の押し込み試験における変形への多層化の影響
- 微小押し込み硬さ試験によるAl/TiNおよびCu/TiN二層薄膜の変形挙動の検討
- 二元交互スパッタリング法を用いたTiC-C系多層薄膜の作製
- 多層構造薄膜のナノインデンテーション
- 薄膜の付着評価法 (特集1 試験・測定技術)
- 組成変調したTi-TiN多層薄膜における高強度化機構
- Al/TiN2層薄膜の微小押し込み硬さ試験におけるエネルギー散逸
- 原子炉圧力容器鋼の疲労損傷に関する磁気特性非破壊評価
- 23aE-11 トンネル磁気抵抗効果のバイアス依存性と温度依存性
- Al_2O_3反応性蒸着による強磁性トンネル接合の作製
- 高品質強磁性トンネル接合素子の作製
- 集束電極付FEAを用いたCdTe-X線イメージセンサの提案(機能ナノデバイスとおよび関連技術)
- 銅酸化物超伝導体における不純物束縛状態
- 29a-H-8 Co/Pt多層膜の内殻吸収磁気円二色性II
- 13a-DC-17 Co/Pt多層膜の内殻吸収磁気円二色性
- 小特集編集にあたって(サブ100nm時代のシステムLSIとビジネスモデル)