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東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻 | 論文
- EMCと磁気応用IV : マイクロEMC
- スリットパターン化したCoFeB/SiO_2膜の異方性磁界
- RF磁性薄膜インダクタの閉磁路化プロセス
- 高飽和磁化bcc-FeCo相を含む(FeCo)-(SiO_2)膜の磁気特性とGHz透磁率特性
- EMCと磁気応用I : シールディドループコイルを用いた高周波磁界計測(連載講座)
- RF集積化マイクロ磁気デバイス(特別ワークショップ「RFマイクロエレクトロニクス」)
- コプレーナ配置した薄膜磁石バイアス構造を有する高周波キャリア型磁界センサ
- 総論
- 《第3回》プリント基板近傍の磁界計測
- コプレーナ配置した薄膜磁石バイアス構造を有する高周波キャリア型磁界センサ
- マイクロパターン化されたCoZrNb磁性膜の磁区観察
- マイクロスケールのEMC対策技術と材料評価技術
- C-7-7 ヘッドアーム上における伝送線路の高周波特性評価
- Co-Fe-B系軟磁性膜の異方性磁界とGHz帯透磁率特性
- 磁性膜のスリット加工による形状異方性制御における加工形状と磁気特性の関係のシミュレーション
- 3235 交流磁性マーカによる磁界発生実験
- 超高周波透磁率測定装置の開発
- ワイヤレス交流磁性マーカの作製
- マイクロパターン化磁性膜の実効静的透磁率
- 高異方性磁界を有する(CoFeB)-(SiO_2)系アモルファス膜の高周波磁気特性