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東京工業大学 電子物理工学専攻 | 論文
- スパッタ法・めっき法によるフェライト薄膜の堆積技術と構造・物性の比較
- 磁性薄膜講座 V : 5. 記録媒体用磁性薄膜
- Pt下地層を用いたBaフェライト垂直磁気記録媒体の特性改善
- Coスピネル系フェライト薄膜媒体の記録特性と低ノイズ化
- Cr下地層の改善による長手磁気記録用Co-Cr-Ta薄膜の特性改善(磁性薄膜及び一般)
- Al置換BaMフェライト薄膜の磁気特性
- PtおよびAu下地層を使用したBaフェライト薄膜の作製
- スパッタ法による磁性膜作製におけるガス種の検討
- 低ノイズ垂直磁気記録層用AI置換BaMフェライト薄膜
- 磁性ナノ・オニオンの表面プラズモン共鳴による磁気光学効果の増大
- 表面プラズモン共鳴による磁性ナノ・オニオン分散媒体の磁気光学効果の増大
- Baフェライト磁気ディスクの低温作製と記録再生特性
- Pt下地層を用いたBaフェライト垂直磁気記録媒体の特性改善
- 磁性薄膜講座 IV : 4. 構造制御磁性薄膜
- 磁性薄膜講座III : 3. フェリ磁性薄膜
- 磁性薄膜講座 II : 2. 強磁性薄膜材料
- 磁性薄膜I 1.堆積方法
- Co-Cr-Ta-Mo垂直媒体の磁気特性と記録再生特性
- 垂直磁気記録媒体用a-Co-Zr-Ta軟磁性スパッタ膜の特性改善
- 垂直磁気記録媒体用 a-Co-Zr-Ta 軟磁性スパッタ膜の特性改善