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東京工業大学・総合理工学研究科 | 論文
- Characteristics of metal-ferroelectric-insulator-semiconductor structures based on poly (vinylidene fluoride-trifluoroethylene) (シリコン材料・デバイス)
- HfNのECR Ar/O_2プラズマ酸化プロセスによる極薄HfSiONの形成(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- ECR-Ar/N_2プラズマにより形成したHfON膜の極薄膜化に関する検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- ECR Ar/N_2プラズマ窒化による高誘電率HfO_xN_y薄膜の形成(Advanced ULSI Technology, 先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ(AWAD2005))
- パルス変調によるヘリウム誘導結合プラズマの生成とその特性測定
- 2段階シリサイド化によるHf混晶化極薄PtSiの耐熱性向上に関する検討(半導体材料・デバイス)
- 外部冷却型高出力ヘリウムICPの開発
- 水素添加によるヘリウム誘導結合プラズマの分光学的特性の改善
- マルチメディア通信におけるデータ構造の乱れを利用した透かし埋め込み法
- マルチバンド衛星画像を利用したメタ情報の透かし
- KL変換に基づく透かし画像を利用したデジタル回覧板
- KL変換に基づく透かしとその都市型防災ネットワークへの応用
- ネットワーク上の秘匿情報交換のためのKL変換による繰り返し透かし
- KL変換に基づく透かしとその都市型防災ネットワークへの応用
- ネットワーク上の秘匿情報交換のためのKL変換による繰り返し透かし
- KL変換に基づく透かしとその都市型防災ネットワークへの応用
- Magneto-TLM法を用いた半導体デバイス電極下の移動度変化によるひずみの評価
- 13a-Y-10 X線CTR散乱によるCaF_2/Si(111)界面構造と育成条件の研究
- ネットワーク上の秘匿情報交換のためのKL変換による繰り返し透かし
- ステガノグラフィを利用したカラー画像の交換 (第6回ネットワークシンポジウム講演論文集)