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日電アネルバ | 論文
- 帯状1ループアンテナによる低圧力高密度プラズマの生成
- 真空技術における物理現象 : 真空における物理・化学
- 多元同時スパッタリング法によるY_1Ba_2Cu_3O_y薄膜の作製
- 高真空平板マグネトロン放電の開発
- 7)TFT/LCD用プラズマCVD装置の最新動向(情報ディスプレイ研究会)
- TFT/LCD用プラズマCVD装置の最新動向 : 情報ディスプレイ
- 真空と真空技術
- 電子材料入門-6-薄膜技術(新・電気化学入門講座)
- サマリー・アブストラクト
- アブストラクト
- 5. 半導体製造装置及び液晶パネル製造装置における排気系( プラズマ装置からの真空工学・排気技術IV)
- 高温非平衡プラズマによるSiO2膜の作製
- 高温非平衡プラズマの特性と応用
- プラズマCVDにおける発光スペクトルの放電周波数による変化
- Gas-Temperature-Controlled CVDによる単結晶Al膜の作成
- レーザ・イオン化法による圧力計測のための極高真空装置の試作
- EIES蒸発速度モニターを用いたMBE成長
- イオン散乱法によるAu (800Å) /Cu (300Å) 積層薄膜酸化の研究
- アブストラクト
- G-M冷凍機を用いたクライオポンプによるXHV実現の可能性