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日立製作所生産技術研究所 | 論文
- 線形弁別特徴変換に関する研究(テーマ関連セッション5)
- D-12-6 未知欠陥の分類に有効な特徴選択手法の基礎検討(D-12.パターン認識・メディア理解A(パターンメディアの認識・理解・生成),一般セッション)
- D-12-7 未知欠陥の分類における閾値の決定に関する基礎検討(D-12.パターン認識・メディア理解A(パターンメディアの認識・理解・生成),一般セッション)
- ランダムな特徴選択とバギングを利用した欠陥分類
- 局所一貫性に基づく点群照合法(サマーセミナー(若葉研究者の集い)「最先端ビジョン技術が拓く画像応用の新境地」)
- 特徴選択とベイズ決定則を利用した欠陥分類
- 欠陥種を考慮に入れた局所一貫性に基づく欠陥パタン照合法とその応用
- 局所一貫性による点群の回転照合法と欠陥パターン照合への応用(パターン認識)
- 照明条件制御下における相関マップ統合型画像マッチング方法 : パターン形状にロバストな画像照合技術
- 特徴空間の再帰的分割に基づく半導体欠陥検査手法(テーマ関連セッション2)
- 特徴空間の再帰的分割に基づく半導体欠陥検査手法(テーマ関連セッション,事例ベースメディア解析)
- 第38回アメリカ真空学会シンポジウム
- 板金CAD/COSTシステムの開発(第1報) -システム構成-
- 凹版オフセット印刷によるマイクロレンズアレイ形成技術の開発
- 半透過型液晶パネル向け新規内蔵位相差板材料
- 招待講演 最新半導体デバイスの環境中性子線エラー--デザインルール22nmへのインパクトと対策 (集積回路)
- 招待講演 最新半導体デバイスの環境中性子線エラー--デザインルール22nmへのインパクトと対策 (電子部品・材料)
- CD-SEMによる微細寸法計測技術
- 回路基板実装容易性自動評価法
- 回路基板組立性自動評価法