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日本電信電話公社茨城電気通信研究所 | 論文
- 光システム構成部分の設計(最近の光メモリー・光通信と超精密技術)
- Ta_2O_5膜絶縁層を用いた薄膜EL表示素子
- 分散形ELディスプレイについて
- EL ディスプレイの最近の進歩
- アブストラクト
- 3.10 金属on半導体
- 被覆光ファイバの強度と信頼性
- 放射能分析における不足当量法 : サブストイキオメトリー
- スパッタ法によるγ-Fe2O3薄膜の磁気特性
- 光ファイバの製造技術
- プラズマ気相反応によるSiC超微粒子粉末の作製
- Ar-O2雰囲気中の鉄の反応スパッタリング
- 結晶構造のデザイン
- 海底同軸ケ-ブル用外被材料
- 分子量および分子量分布からみたポリエチレンの紫外線劣化
- 赤外線吸収スペクトルからみたポリエチレンの劣化機構〔ポリエチレンの紫外線劣化-1-〕
- レーザ蒸着による炭素膜の形成
- レジモルタルの流動特性
- 早強制レジンモルタルの耐水配合
- プラスチックの超精密成形技術 : 光ファイバ用接続部品への適用