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愛知工業大学工学部電気学科電気工学専攻 | 論文

• Si基板上でのGaNマイクロファセット上へのInGaN/GaN選択MOVPE成長(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
• 20aYH-2 ナノスケール開放系スタジアムにおける電子波束の時間発展
• 導波路結合型三重量子ディスク構造における光制御(化合物半導体プロセス・デバイス・一般)
• 量子ディスクと導波路結合構造における励起子ポラリトンの光学的共鳴(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• 14pYC-11 量子ディスク・光導波路近接構造における励起子と励起子ポラリトンの共鳴結合(量子井戸・超格子 : 輸送現象・光学応答, 領域 4)
• Si基板上化合物半導体ナノワイヤのMBE-VLS成長(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• MBE-VLS法を用いた(111)Si基板上へのGaAsナノワイヤ成長(機能ナノデバイスとおよび関連技術)
• (001)Si傾斜基板上(1-101)GaNへのSiおよびCドーピング(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• MOVPE法によるSi基板上へのGaN/AlNピラミッド構造の作製(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• パターン基板上MBE成長による結合量子ディスクの作製(量子効果デバイス及び関連技術)
• 量子ディスクと導波路結合構造における励起子ポラリトンの光学的共鳴(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• 量子ディスクと導波路結合構造における励起子ポラリトンの光学的共鳴(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• Si基板上化合物半導体ナノワイヤのMBE-VLS成長(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• Si基板上化合物半導体ナノワイヤのMBE-VLS成長(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• MBE-VLS法を用いた(111)Si基板上へのGaAsナノワイヤ成長(機能ナノデバイスとおよび関連技術)
• Si基板上でのGaNマイクロファセット上へのInGaN/GaN選択MOVPE成長(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
• Si基板上でのGaNマイクロファセット上へのInGaN/GaN選択MOVPE成長(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
• (001)Si傾斜基板上(1-101)GaNへのSiおよびCドーピング(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• (001)Si傾斜基板上(1-101)GaNへのSiおよびCドーピング(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• MOVPE法によるSi基板上へのGaN/AlNピラミッド構造の作製(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))

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